< img height="1" width="1" style="display:none" src="https://www.facebook.com/tr?id=246923367957190&ev=PageView&noscript=1" /> China Original New Common Rail 206 202 Control Valve for F00VC45204 Valve Assembly စက်ရုံနှင့် ထုတ်လုပ်သူ | Ruida
Fuzhou Ruida စက်ပစ္စည်း Co., Ltd.
ကြှနျုပျတို့ကိုဆကျသှယျရနျ

F00VC45204 Valve စည်းဝေးပွဲအတွက် မူရင်း Common Rail 206 202 Control Valve

ထုတ်ကုန်အသေးစိတ်-

  • မူလနေရာ-တရုတ်
  • ကုန်အမှတ်တံဆိပ်အမည်- CU
  • အသိအမှတ်ပြုလက်မှတ်-ISO9001
  • မော်ဒယ်နံပါတ်-F00VC45204
  • အခြေအနေ-အသစ်
  • ငွေပေးချေမှုနှင့် ပို့ဆောင်မှု စည်းမျဉ်းများ-

  • အနည်းဆုံး မှာယူမှု အရေအတွက်-၆ ကွက်
  • ထုပ်ပိုးမှုအသေးစိတ်Neutral Packing
  • ပို့ဆောင်ချိန်:3-5 အလုပ်ရက်
  • ငွေပေးချေမှုစည်းမျဉ်းများ-T/T၊ L/C၊ Paypal
  • ထောက်ပံ့နိုင်မှု-၁၀၀၀၀
  • ထုတ်ကုန်အသေးစိတ်

    ထုတ်ကုန်အမှတ်အသား

    ထုတ်ကုန်အသေးစိတ်

    F00VC01367 (၁)၊ F00VC01301 (၂)၊ F00VC01301 (၄)၊ F00VC01310 (၆)၊ F00VC01312 (၃)၊ F00VC01312 (၂)၊

    ထုတ်ကုန်အမည် F00VC45204
    အင်ဂျင်မော်ဒယ် /
    လျှောက်လွှာ /
    MOQ 6 pcs / ညှိနှိုင်း
    များပါတယ်။ အဖြူရောင်သေတ္တာထုပ်ပိုးမှုသို့မဟုတ်ဖောက်သည်၏လိုအပ်ချက်
    ကြာမြင့်ချိန် အမိန့်အတည်ပြုပြီးနောက် 7-15 အလုပ်လုပ်ရက်
    ငွေပေးချေမှု T/T, PAYPAL, သင့်စိတ်ကြိုက်

     

    Fuel Injector အသစ်၏ ဆီထိုးအပ်အတွက် မျက်နှာပြင် ကုသမှုနည်းလမ်း

    အောက်ပါအဆင့်များကို လိုက်နာပါ-

    1) ဆီဆေးထိုးအပ်များ၏ Ultrasonic သန့်စင်ခြင်းကို မိနစ် 30 ကြာ သတ္တုချေဖျက်ဆေးဖြင့် သန့်စင်ပြီးနောက် အခြောက်ခံပါ။

    2) အကြိုရေဖျန်းသန့်စင်ခြင်း။
    သန့်စင်ပြီး အခြောက်လှန်းထားသော ဆီဆေးထိုးအပ်များကို ဟန်ချက်မညီသော magnetron sputtering ion plating စက်၏ လေဟာနယ်ခန်းထဲသို့ ထည့်ပြီး အိုင်းယွန်းစပတာထုတ်ခြင်း သန့်ရှင်းရေးကို မိနစ် 30 မှ 60 အထိ ပြုလုပ်ပါသည်။

    3) အပေါ်ယံပိုင်း
    ကွင်းပိတ်ကွင်းအတွင်း ဟန်ချက်မညီသော magnetron sputtering ion plating စက်ပစ္စည်း၏ လေဟာနယ်တွင်၊ ရေနံအပ်များကို သတ္တုအက်တမ်များဖြင့် 10 မိနစ်မှ 20 မိနစ်အထိ ရောနှောကာ သန့်စင်သောသတ္တုအက်တမ်များ၏ အကူးအပြောင်းအလွှာတစ်ခုအဖြစ် ဖွဲ့စည်းကာ ကာဗွန်အက်တမ်များကို သတ္တုအက်တမ် 50 ဖြင့် ကွဲထွက်စေသည်။ မိနစ် 80 အထိ။ Atom sputtering သည် ဖွဲ့စည်းမှု gradient အလွှာကိုဖွဲ့စည်းရန်၊ သတ္တုအက်တမ် sputtering နှင့် carbon atom sputtering သည် nano-multilayer amorphous ကာဗွန်ဖလင်ကိုဖွဲ့စည်းရန် မိနစ် 90 မှ 120 အထိကြာအောင်ပြုလုပ်သည်။

    အထက်ဖော်ပြပါ သတ္တုအက်တမ်များသည် ခရိုမီယမ် Cr၊ သို့မဟုတ် တိုက်တေနီယမ် Ti၊ သို့မဟုတ် ဇာကွန်နီယမ် Zr သို့မဟုတ် ငွေ။

    4. တိုင်ကြားချက် 3 အရ ဆန်းသစ်သော လောင်စာထိုးဆေးထိုးအပ်၏ မျက်နှာပြင် ကုသမှုနည်းလမ်းမှာ အောက်ပါလက္ခဏာများဖြစ်သည်- ဟုဖော်ပြထားသော အဆင့် 2 တွင်) အာဂွန်ကို သန့်စင်မှု 99.99% ရှိသော လေဟာနယ်ခန်းထဲသို့ မိတ်ဆက်ပြီး စီးဆင်းမှုနှုန်း 25 ~ 35 sccm၊ .

    5. တိုင်ကြားချက် 4 အရ ဆန်းသစ်သော လောင်စာထိုးဆေးထိုးအပ်၏ မျက်နှာပြင် ကုသမှုနည်းလမ်းမှာ အောက်ပါအတိုင်းဖြစ်သည်- ဖော်ပြပါအဆင့် 3 တွင်) အာဂွန်ဓာတ်ငွေ့ကို သန့်စင်မှု 99.99% ရှိသော လေဟာနယ်ခန်းထဲသို့ ထည့်ပြီး စီးဆင်းမှုနှုန်း 15 ~ 30 ဖြစ်သည်။ sccm


  • ယခင်-
  • နောက်တစ်ခု:

  • သင့်စာကို ဤနေရာတွင် ရေးပြီး ကျွန်ုပ်တို့ထံ ပေးပို့ပါ။